Приветствую Вас ГостьПятница, 18.08.2017, 01:29

Мир Софта

«  Июль 2017  »
ПнВтСрЧтПтСбВс
     12
3456789
10111213141516
17181920212223
24252627282930
31
Программа недели
C-Media CMI8738/C3DX Audio Device PCI
Новые программы
Новая литература
Немного поэзии
Еще раз, встретиться с тобой
Еще раз, быть самой собой
Читать полностью
Друзья сайта


Нас знают
Каталог@Mail.ru - каталог ресурсов интернет
Архив записей
Поиск

Главная » 2017 » Июль » 18 » Samsung ускоряет разработку 6-нанометрового техпроцесса
06:57
Samsung ускоряет разработку 6-нанометрового техпроцесса

По сообщению источника, опирающегося на сообщения южнокорейских СМИ, компания Samsung Electronics пересматривает график освоения технологий полупроводникового производства с целью приблизить начало выпуска продукции по нормам 6 нм. Как утверждается, теперь Samsung рассчитывает начать серийный выпуск 6-нанометровых микросхем во втором полугодии 2019 года. Ранее на 2019 год был запланирован только пробный выпуск.

Причиной, побуждающей Samsung ускориться, названо отставание от компании TSMC, которая разрабатывает 7-нанометровый техпроцесс. Предложив 6-нанометровую альтернативу, Samsung сможет побороться с TSMC за заказы Qualcomm и Apple. Месяц назад появилась информация, что Qualcomm будет заказывать 7-нанометровые SoC не у Samsung, а у TSMC. К выпуску серийной продукции по нормам 7 нм в TSMC рассчитывают приступить в начале 2018 года.

Отметим, что на данном этапе TSMC использует иммерсионную литографию, но ведет разработки улучшенной версии 7-нанометрового техпроцесса с использованием литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Эта версия должна быть готова к серийному производству в 2019 году.

Компания Samsung тоже делает ставку на EUV. До конца года южнокорейский производитель рассчитывает установить две машины ASML, предназначенные для EUV-литографии, а в будущем году — еще семь. Это оборудование позволяет освоить нормы 7, 6 и 5 нм.

 

Отметим, что, вероятнее всего, речь идет о сканерах ASML 3400B, поставки которых начались весной. Это первый EUV-сканер ASML, подходящий для серийного производства, поскольку его проектная производительность составляет 125 пластин в час. Первые экземпляры обеспечивали обработку 104 пластин в час, поскольку в них установлен источник излучения мощностью 148 Вт. Для производительности 125 пластин в час необходима мощность 250 Вт — источник такой мощности ASML показала на прошлой неделе.

Категория: Новости Железа | Просмотров: 17 | Добавил: alex | Рейтинг: 0.0/0
Категории раздела
Новости Софта [6015]
Новости из мира софта
Новости Железа [6327]
Новости из мира железа
----->> ТОП 10 <<-----
C-Media CMI8738/C3DX Audio Device PCI
Обои для презентаций
Драйвера и софт для Веб-камера A4Tech
FlylinkDC++ r400 Build 4582 х86
MiniTool Partition Wizard Home Edition 6.0
MobiMB Media Browser 3.5.31 RUS
Тема Mac OS для Windows 7
VKontakte.DJ версия 3.22
Пакет оформления для Windows 7 х86х64 Rus"Windows 7 New Look Dark"
Windows 7 Firewall Control 4.0.144.38 х32/х64
----->> Новые Статьи <<-----
[15.05.2013][ПК и комплектующие]
Особенности ремонта ноутбуков.(19)
[26.03.2013][ПК и комплектующие]
Как уберечь информацию и электроприбору от перебоя напряжения
[28.02.2013][ПК и комплектующие]
Особенности ремонта ноутбука.(5)
[28.02.2013][ПК и комплектующие]
Грамотная настройка компьютера без посещения мастерской
[18.12.2012][Программное обеспечение]
Преимущества Google Adwords и Яндекс Директ
[27.11.2012][ПК и комплектующие]
Купить Kinect
[11.09.2012][ПК и комплектующие]
Схемы автоматизации, а также диспетчеризации зданий – новведение в технологической сфере.
[10.09.2012][Программное обеспечение]
Обои и программы для ОС Андроид на планшеты и КПК
[27.08.2012][Программное обеспечение]
Flash игры бесплатно играть - это весело
[20.08.2012][ПК и комплектующие]
Мобильные компьютеры, их типы, техничексие характеристики и особенности
Наш опрос
Помог ли Вам наш сайт?
Всего ответов: 73
Сейчас на сайте

Главная | Новости | Софт | Литература